Na plně automatizované výrobní lince s eliptickým skénováním určuje tempo práce právě doba sušení pod UV zářením. Pokud UV lampa nedokáže během několika milisekund poskytnout dostatečnou hustotu energie, konvektor musí čekat – a tím klesne celková efektivita výroby. Tuto lampu jsme navrhli s ohledem na specifikace polovodičových technologií právě proto, abychom odstranili tento problém a zkrátili dobu sušení, aniž bychom přitom snížili kvalitu výsledku.
Důležité je to, co lze změřit. Výstupní světlo zůstává na úrovni 365 nm, což odpovídá absorpci světla fotoiniciátorem v UV-aktivních inkách a fotopolymerech. Maximální intenzita záření dosahuje 12 000 mW/cm² na povrchu substrátu. Během doby trvání záření 300 ms lze dosáhnout hodnoty 800 mJ/cm².
Reflektor používá vysokopevnostní hliník s dichroickým povlakem, díky čemuž je reflexe UV záření vyšší než 92 %, zatímco tepelné zatížení v infračerveném spektru zůstává pod kontrolou. Uvnitř se nachází jádro z vodíkové páry pod vysokým tlakem, umístěné v kvartovém obalu bez ozónu. Řízení stability oblouku udržuje odchylky výstupního světla pod 3 % v průběhu celého pracovního cyklu.
Proč to má v praxi takový účinek? Zkrácením doby sušení získáte více cyklů za hodinu. Pokud dobu sušení snížíte o 40 %, stejná eliptická tiskárna dokáže provést více opakování během jedné směny, přičemž zachová kvalitu povrchu a adhezi. Množství výrobků s nedostatečně vyztuženým povrchem se snižuje, spotřeba energie na kus klesá a životnost lampy zůstává nad 5 000 hodin s odchylkami výstupního světla menšími než 5 %.
Několik poznámek z praxe: Tato lampa vyžaduje precizní polohování a chlazení. Vzdálenost od substrátu musí být přesně taková, jak je stanoveno, a průtok vzduchu musí zůstat v rozmezí ±10 % od nominální hodnoty – jinak vzniknou „horká místa“ a lampa rychleji zestárne. Také je potřeba zkontrolovat elektrickou kompatibilitu s balastem a konektorem; nekompatibilní napájecí zařízení může narušit spektrální profil a zkrátit životnost lampy.