<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Litho on UV Lamp Zone</title>
		<link>http://uv-lamp-zone.com/cs/tags/litho/</link>
		<description>Recent content in Litho on UV Lamp Zone</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 10:04:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-zone.com/cs/tags/litho/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>UV lampa pro litografii polovodičů</title>
				<link>http://uv-lamp-zone.com/cs/posts/uv-lamp-for-semiconductor-litho/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 10:04:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-zone.com/cs/posts/uv-lamp-for-semiconductor-litho/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-zone.com/images/53e5a79b9c4789b57e4bb2caec97aea5.png&#34; alt=&#34;UV lampa pro litografii polovodičů&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na plně automatizované výrobní lince s eliptickým skénováním určuje tempo práce právě doba sušení pod UV zářením. Pokud UV lampa nedokáže během několika milisekund poskytnout dostatečnou hustotu energie, konvektor musí čekat – a tím klesne celková efektivita výroby. Tuto lampu jsme navrhli s ohledem na specifikace polovodičových technologií právě &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;proto&lt;/a&gt;, abychom odstranili tento problém a zkrátili dobu sušení, aniž &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;bychom&lt;/a&gt; přitom snížili kvalitu výsledku.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Důležité je to, co lze změřit. Výstupní světlo zůstává na úrovni 365 nm, což odpovídá absorpci světla fotoiniciátorem v UV-aktivních inkách a fotopolymerech. Maximální intenzita záření dosahuje 12 000 mW/cm² na &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;povrchu&lt;/a&gt; substrátu. Během doby trvání záření 300 ms lze dosáhnout hodnoty 800 mJ/cm².&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
