<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Lito on UV Lamp Zone</title>
		<link>http://uv-lamp-zone.com/pt/tags/lito/</link>
		<description>Recent content in Lito on UV Lamp Zone</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pt</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 10:04:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-zone.com/pt/tags/lito/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lâmpada UV para litografia de semicondutores</title>
				<link>http://uv-lamp-zone.com/pt/posts/uv-lamp-for-semiconductor-litho/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 10:04:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-zone.com/pt/posts/uv-lamp-for-semiconductor-litho/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-zone.com/images/53e5a79b9c4789b57e4bb2caec97aea5.png&#34; alt=&#34;Lâmpada UV para litografia de semicondutores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Em uma linha de produção elíptica totalmente automatizada, o intervalo de secagem rápida é o que determina o ritmo de produção. Se a lâmpada UV não consegue fornecer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;densidade&lt;/a&gt; de energia suficiente em milissegundos, o transportador precisa esperar – e a produtividade diminui. Nós desenvolvemos essa lâmpada com base nas especificações dos processos de litografia de semicondutores, justamente para eliminar esse gargalo, reduzindo o tempo de secagem sem comprometer a qualidade da cura.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;O que pode ser medido é o que realmente importa. A emissão de luz permanece estável nos 365 nm, valor correspondente à absorção do fotoiniciador nas tintas e fotopolímeros curáveis por UV. A intensidade máxima de irradiação atinge 12.000 mW/cm² na superfície do substrato, e é possível alcançar 800 mJ/cm² em um tempo de 300 ms.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
